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我们稳定可靠的气体分析解决方案可测量超过20种气体，可达到业界先进的精度和稳定性。
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我们为危险和安全区域应用提供准确可靠的气体分析，包括超低检测和便携式产品。
为您的过程控制找到正确的气体分析解决方案。我们的探测器允许您通过关键参数进行选择，包括气体感测，使用的技术和所需的量程。
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Plasma专为空分装置(ASU)设备操作而设计，可以实现准确、稳定和可靠的测量，灵敏度可达0-1ppm。
您可以轻松找到适合应用需求的仕富梅产品。
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我们的专家团队会帮助您选择合适的产品套件，包括相关配件和支持，确保为您提供的分析仪具备优异性能
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Plasma采用获得专利的高规格等离子放射检测仪(PED)传感技术，并通过智能微处理器平台提供无与伦比的稳定性和选择性，可以对纯Ar和/或He中的N2进行持续监测。
Plasma将高稳定性能和灵活性集于一身，可以为深冷空分和气体装瓶应用中的过程控制和质量检验需求提供合适的分析解决方案。
Plasma在标准或高纯设置模式下均提供三种测量范围，而且自动量程切换功能可以实现最佳输出分辨率，从而提供符合应用需求的灵活解决方案。
此外，Plasma仅需零维护，设计操作更方便，而且提供了RS232 ASCII（选配）。因此，这种分析解决方案可以在各个层次上使用。
当您在低温空气分离或气体装瓶厂工作，生产Ar或进行He液化时，您需要一个能够对N2或痕量杂质进行可靠，准确的连续监测的分析仪。轻松配置合适的设备并选择满足您特定需求的设备也很重要；包括可以同时检测Ar或He或两种气流的灵活性。无论您的应用程序需要什么，您还需要一种能够降低持续成本并通过选择的通信平台提供全面的远程交互的设备。而且我们认为您不必妥协。
等离子体是Ar和/或He中稳定的连续N2和痕量N2杂质测量分析仪。通过简单的设置（包括三个范围选项的配置），该分析仪可以满足您的特定应用需求。等离子还通过其故障警报和接触警报功能增强了安全性并减少了停机时间的可能性。
Plasma提供了令人印象深刻的可承受性，以匹配其准确性和测量稳定性，而无需持续的维护要求。使用网络连接与该分析仪进行远程交互的功能通过允许进行异地故障排除和参数检查，可提供额外的价值。这大大降低了终生拥有成本，因此您可以利用可观的节省
如果您想将Plasma集成到新系统或现有系统中，我们的专家团队可以确保为您提供何时的分析解决方案。请与我们经验丰富的系统工程师联系以获取支持。
Plasma可以为深冷空分和气体装瓶应用提供灵敏和可靠的PED氮气监测。
Plasma满足安全标准IEC 61010-1: Ed 3和低压指令、EMC以及其他相关指令。
Plasma可以提供0-1ppm、0-10ppm和0-100pmm量程范围内的氮气浓度读数，也可以根据客户要求提供更高量程的型号。
电子流量控制系统可以确保Plasma具有较少的流量消耗和良好的读数稳定性。
Plasma专为氩气和/或氦气中微量级氮气的持续监测而设计。
Technologies
符合IEC 61010-1：Ed 3的电气安全 安装类别II IEC 60664-1污染等级2 IEC 60664-1 符合低压，EMC和适用的指令
461毫米（18.1英寸）宽x 132毫米（5.1英寸）高x 484毫米（19英寸）深
15公斤（33磅）
“要获得深入的规范，您将需要下载我们的技术数据表，其中包括有关技术，性能，操作环境，样品条件和合规性的信息，以及技术图纸和顶级收益和应用。”
“我们的资源包为您提供了所需的所有分析仪信息，包括产品手册和操作手册。了解Plasma如何提高您的工艺性能。”
等离子手册和手册包含有关功能和优点的更多信息，并说明了如何安装和操作分析仪。立即下载。
微量级氮分析仪的综合操作指南
介绍空分和气体装瓶应用中用于监测N2的灵敏、可靠的分析仪
这些备件可使SERVOPRO Plasma保持最长的正常运行时间
Plasma准确度高且性能稳定，是ASU工厂应用的理想选择。
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